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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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你我走散

铜虫 (小有名气)

[交流] SBA-15表面的硅羟基(-OH),除模板(焙烧)前后,硅羟基数量的变化是什么概念。

如题,SBA-15表面的硅羟基(-OH),在焙烧除模板这一步骤前后,硅羟基数量的变化是什么概念。会减少多少呢?谁有过经验,求教
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做你想做,追逐梦想
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aust_jhe

至尊木虫 (著名写手)

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
青若: 金币+1, 谢谢回帖,欢迎常来无机物化版交流 2015-08-03 16:59:39
你我走散: 金币+5 2015-08-04 12:57:33
硅羟基可以用真空红外光谱表征,在去除模板后看羟基峰变化。但要定量的话,一定要注意压片的厚度,体会朗伯比尔定律应用中问题。
天天学习,好好向上
4楼2015-08-02 07:11:34
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你我走散

铜虫 (小有名气)

一般是550 ℃温度下焙烧4 h;
那如果用盐酸乙醇溶液萃取模板,应该可以保护硅羟基吧
做你想做,追逐梦想
2楼2015-07-30 20:40:35
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你我走散

铜虫 (小有名气)

文献:用盐酸/乙醇溶液400ml,在70℃下回流  4h,重复洗涤两次,去除模板剂p123
做你想做,追逐梦想
3楼2015-07-30 20:43:56
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