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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 无机/物化 » 无机化学 » SBA-15表面的硅羟基（-OH），除模板(焙烧)前后，硅羟基数量的变化是什么概念。
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你我走散

铜虫 (小有名气)

[交流] SBA-15表面的硅羟基（-OH），除模板(焙烧)前后，硅羟基数量的变化是什么概念。

如题，SBA-15表面的硅羟基（-OH），在焙烧除模板这一步骤前后，硅羟基数量的变化是什么概念。会减少多少呢？谁有过经验，求教
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做你想做，追逐梦想
1楼2015-07-30 20:33:27
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你我走散

铜虫 (小有名气)
一般是550 ℃温度下焙烧4 h；
那如果用盐酸乙醇溶液萃取模板，应该可以保护硅羟基吧
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做你想做，追逐梦想
2楼2015-07-30 20:40:35
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你我走散

铜虫 (小有名气)
文献：用盐酸/乙醇溶液400ml，在70℃下回流  4h，重复洗涤两次，去除模板剂p123
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做你想做，追逐梦想
3楼2015-07-30 20:43:56
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aust_jhe

至尊木虫 (著名写手)
★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
青若: 金币+1, 谢谢回帖，欢迎常来无机物化版交流 2015-08-03 16:59:39
你我走散: 金币+5 2015-08-04 12:57:33
硅羟基可以用真空红外光谱表征，在去除模板后看羟基峰变化。但要定量的话，一定要注意压片的厚度，体会朗伯比尔定律应用中问题。
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天天学习，好好向上
4楼2015-08-02 07:11:34
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你我走散

铜虫 (小有名气)
5楼2015-08-04 12:58:07
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