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evanbossccp木虫 (正式写手)
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离子束刻蚀机的刻蚀均匀性（3寸片）总是达不到3%，急求原因！！！ 已有2人参与
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各位大神，我们自主研制的”离子束刻蚀机“，基片台公转+自转模式，基片台含3个自转盘（装3寸片），3个自转盘绕中心公转，3个自转盘组成6寸大的基片台，按理说，我们采用的基片台公转+自转模式，样品的刻蚀均匀性应该很好，但是，我们现在单个自转盘的片内均匀性都达不到3%，更不用提在6寸范围内（含3个自转盘）达到3%的均匀性了，究竟是什么原因？还请行内高手不吝指教！！！ 问题请教： 1、影响”离子束刻蚀机“均匀性的决定性因素是什么？离子源？基片台旋转模式？还是两者都有？ 2、目前，我们怀疑离子源的束流和基片台的旋转不匹配，也可能是基片台旋转不稳定（比如说轻微的抖动）造成刻蚀均匀性不好，这种猜测合理吗？ 3、解决”离子束刻蚀机“刻蚀均匀性要从哪些方面着手改进？ |
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zle_jy
木虫 (著名写手)
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