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evanbossccp

木虫 (正式写手)

[求助] 离子束刻蚀机的刻蚀均匀性(3寸片)总是达不到3%,急求原因!!! 已有2人参与

各位大神,我们自主研制的”离子束刻蚀机“,基片台公转+自转模式,基片台含3个自转盘(装3寸片),3个自转盘绕中心公转,3个自转盘组成6寸大的基片台,按理说,我们采用的基片台公转+自转模式,样品的刻蚀均匀性应该很好,但是,我们现在单个自转盘的片内均匀性都达不到3%,更不用提在6寸范围内(含3个自转盘)达到3%的均匀性了,究竟是什么原因?还请行内高手不吝指教!!!

问题请教:
1、影响”离子束刻蚀机“均匀性的决定性因素是什么?离子源?基片台旋转模式?还是两者都有?
2、目前,我们怀疑离子源的束流和基片台的旋转不匹配,也可能是基片台旋转不稳定(比如说轻微的抖动)造成刻蚀均匀性不好,这种猜测合理吗?
3、解决”离子束刻蚀机“刻蚀均匀性要从哪些方面着手改进?
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学而优在商,商而优在仕,仕而优在教
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physics123

银虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

我们做的工作内容很像。我们也是自己做的刻蚀机。你们这个用的是什么源?束斑面积多大?是不均匀性达不到3%吧?
2楼2015-11-09 16:38:15
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zle_jy

木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

我近期使用RIE刻蚀,刻蚀得到的样品均匀不好,且刻蚀时间很长(比以前),找厂家工程师沟通也没有找到什么问题(硬件工作正常),各位能不能分析什么原因啊?
3楼2021-07-02 16:41:12
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