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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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csgt0

荣誉版主 (著名写手)

彩色挂图

[交流] 【求助】磁控溅射问题

使用普通的磁控溅射,但是基体不够规则,具有V型口,镀膜发现V型口底部很难镀上或者厚度不够,不知道有什么办法能够解决,在不改变设备的情况下。谢谢

[ Last edited by NJUT_tiger on 2008-7-30 at 19:18 ]
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showmethemoney
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ranon

金虫 (正式写手)


csgt0(金币+1,VIP+0):谢谢!
用大的pf及小的反应压力试一下。
4楼2008-07-29 12:47:41
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元小雪

木虫 (职业作家)


csgt0(金币+1,VIP+0):谢谢!
在低的地方下面垫一个东西就可以了
无聊的博士
2楼2008-07-28 18:20:54
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csgt0

荣誉版主 (著名写手)

彩色挂图

不是基片,是零件,表面带凹槽或V型槽,当然也是转动的。主要问题是溅射出来的到达不了凹槽深处。(生产问题,非科研问题)
showmethemoney
3楼2008-07-29 12:18:51
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chw0304

银虫 (小有名气)


csgt0(金币+1,VIP+0):谢谢!
I suppose your problem is the ability of step coverage. Maybe you can try to solve the problem with increase the depositing distance.
5楼2008-07-30 03:09:53
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