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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 光刻匀胶
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zwj-

新虫 (初入文坛)

[求助] 光刻匀胶 已有5人参与

光刻胶匀胶一直不够均匀怎么解，转速从3000到6000，时间从30S到100S，这些基本全试了，湿度低于40%，温度室温。一直不够均匀，为数不多的几次均匀里也是出现细密的条纹，覆盖整个硅片。会是什么原因呢。谢谢

光刻匀胶
IMG_20150506_093717.jpg
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1楼 2015-05-07 16:49:12
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perry_ping

新虫 (职业作家)

【答案】应助回帖

直接喷胶，胶层就相对比较均匀

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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6楼2016-01-25 20:44:59
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spiderman504

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
有没有可能前级转速太高了，我这边低速一般是500转，10秒，然后高速。再者，匀胶台会不会高低不平？仔细检查下，如果以前涂胶都OK的话，那就有可能是胶过期了，不稳定了，胶的粘度不均匀了。
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由于您的签名过于个性，小木虫暂时无法显示。。。
2楼2015-05-07 18:49:05
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zwj-

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by spiderman504 at 2015-05-07 18:49:05
有没有可能前级转速太高了，我这边低速一般是500转，10秒，然后高速。再者，匀胶台会不会高低不平？仔细检查下，如果以前涂胶都OK的话，那就有可能是胶过期了，不稳定了，胶的粘度不均匀了。

谢谢，前期匀胶是500转，7S，然后高速。匀胶台我在查一下，胶的问题我也注意一下。谢谢
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3楼2015-05-07 20:01:29
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zipperzinc

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

这种纹路看起来应该是晶圆的圆心与涂胶台的旋转轴心不同轴。还有就是滴胶时200-400rpm，滴完胶以500rpm左右转速慢旋数秒，再以较高转速2000-5000rpm高速甩胶，最后进入一个低速的慢旋
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赠人玫瑰，手留余香
4楼2015-05-19 13:54:28
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