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急问-请教薄膜方面专家
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急问-请教薄膜方面专家 最近想做一些物理法渡膜的工作，但是对有些基本的问题还不是太懂，在这里请教一下。 对于目前常用的镀膜方法，比如 electron-beam deposition, ion-beam depositon（Ar+）, radio-frequency 磁控溅射，这三个方法比起来，是不是在精确度方面e-beam>ion-beam>磁控溅射？ 此外，film的质量呢？比如多孔性，疏松性，结晶性质等，是否有什么区别？ 我现在用的是Ar离子辅助的 ion-beam deposition，所以更想知道这个方法得到的膜的一些特征（target为SiO2，设备为Gatan 682 precise etching and deposition system）。 非常感谢大家！ |
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