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硅氢键的形成
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gumingsu_xmc
新虫
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在线: 8.8小时
虫号: 2614196
注册: 2013-08-24
专业: 应用有机化学
[
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]
硅氢键的形成
已有1人参与
我想在单晶硅表面形成一层Si-H键,打算用40%的氟化铵处理,不知需不需要加热,还有在刻蚀前需要用哪些溶剂清洗较好,急求!!!!!!!!!!!!!!1
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1楼
2015-03-19 22:12:36
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潭广林深
新虫
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虫号: 4908934
注册: 2016-08-10
专业: 电化学
【答案】应助回帖
1.不需要加热,浸泡到40%氟化铵,表面有均匀气泡即可
2.预先用食人鱼溶液浸泡2h(可加热60摄氏度),超声清洗除去酸
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2楼
2019-12-02 09:08:41
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