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gumingsu_xmc

新虫 (初入文坛)

应助: 0 (幼儿园)
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虫号: 2614196
注册: 2013-08-24
专业: 应用有机化学

[求助] 硅氢键的形成已有1人参与

我想在单晶硅表面形成一层Si-H键，打算用40%的氟化铵处理，不知需不需要加热，还有在刻蚀前需要用哪些溶剂清洗较好，急求！！！！！！！！！！！！！！1

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1楼 2015-03-19 22:12:36

已阅回复此楼关注TA 给TA发消息送TA红花 TA的回帖

潭广林深

新虫 (小有名气)

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专业: 电化学

【答案】应助回帖

1.不需要加热，浸泡到40%氟化铵，表面有均匀气泡即可
2.预先用食人鱼溶液浸泡2h（可加热60摄氏度），超声清洗除去酸

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