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gumingsu_xmc

新虫 (初入文坛)

[求助] 硅氢键的形成 已有1人参与

我想在单晶硅表面形成一层Si-H键,打算用40%的氟化铵处理,不知需不需要加热,还有在刻蚀前需要用哪些溶剂清洗较好,急求!!!!!!!!!!!!!!1
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潭广林深

新虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

1.不需要加热,浸泡到40%氟化铵,表面有均匀气泡即可
2.预先用食人鱼溶液浸泡2h(可加热60摄氏度),超声清洗除去酸
2楼2019-12-02 09:08:41
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