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windsuk2011金虫 (小有名气)
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缺陷能带结构中的能级与缺陷形成能计算中的转变能级的问题已有1人参与
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在能带结构计算中,缺陷会在禁带中引入defect level,DOS图中也可看出,而缺陷形成能的计算中,可以得到defect transition level, 这两个level有何不同? defect transition level对应缺陷电离能,而电离能=导带 - defect level(施主) 是不是一样呢? |
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windsuk2011
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额。。。这个帖子还是我发的,我看了大部分有关缺陷的书,对于缺陷能级都是这么介绍的,缺陷在禁带中会引入能级,该能级的位置就用电离能来表示,施主能级就是导带以下Ed的位置,受主能级就在价带以上Ea的位置,而这些电离能可以通过电离前后能量的改变来求得,即两种不同价态的缺陷形成能之差除以电荷差,也就是缺陷转变能级。 那么能带计算中得到的缺陷的能级,它距离导带(或价带)的距离是不是不等于电离能啊? The thermodynamic transition levels are not to be confused with the single-particle Kohn–Sham states that result from band-structure calculations for a single charge state. It is important to realize that the Kohn-Sham (KS) levels that result from a bandstructure calculation for the center cannot directly be identified with any levels that are relevant for experiment。 还有,从这两句话来看,似乎能带计算中得到的缺陷能级用处不大啊? |
4楼2015-01-28 19:21:52
windsuk2011
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6楼2015-01-29 10:06:30
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11楼2015-01-31 17:16:27
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13楼2015-01-31 22:03:35













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