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花花1013

新虫 (小有名气)

[求助] 化学刻蚀法刻硅纳米线 已有2人参与

大家好:
           我在用化学刻蚀法做硅纳米线,原来用的刻蚀液为0.035mol/L的AgNO3溶液与20wt%的HF酸的混合液,常温刻蚀3h,以前的硅片电阻率<0.1Ω•cm,浓硝酸去银后可以刻出硅纳米线,现在买的新硅片其他的参数都一样就是电阻率变小了为0.001-0.005,在放在浓硝酸里去银时把硅片炸出来了,稀释后再去银的结果就是硅片上没有线。请大家指导指导!不胜感激!
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麦蒽莉00

铜虫 (初入文坛)

引用回帖:
4楼: Originally posted by qingchenyulu at 2017-03-24 14:33:54
请问楼主,刻蚀硅纳米线之后,除掉银层,可以用王水吗?

可以的

发自小木虫IOS客户端
5楼2017-04-11 16:41:30
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


【答案】应助回帖

重掺本来就难刻,为什么要换电阻率??
2楼2015-01-29 17:02:45
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yanfang4102

铜虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

你可以用0.02的硝酸银
3楼2015-03-04 09:17:10
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qingchenyulu

新虫 (正式写手)

请问楼主,刻蚀硅纳米线之后,除掉银层,可以用王水吗?

发自小木虫Android客户端
4楼2017-03-24 14:33:54
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