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Wendydudu木虫 (小有名气)
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循环伏安法需不需要考虑双电层电容变化
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1.循环伏安法响应的电流为： i=ic+ir=Cd(dE/dt)+(E-Ez)(dCd/dt)+ir ic是双电层充放电电流，ir是法拉第反应电流。ic又包括两项，一项是电势变化引起的充放电电流，只要有电势改变就会存在；另一项是双电层电容改变引起的充放电电流，当电极表面发生活性物质吸脱附时，双电层电容会发生急剧改变，其他条件下，这一项可以认为是零。 2.循环伏安法峰电流的形成，一般认为可能有两种来源：一个一是来自法拉第反应电流，由于受到扩散传质的影响，形成电流峰，峰前可以认为反应物充足，过电势控制电流，电流上升，峰后为传质控制，因为扩散层增厚引起；另一个来源可能是，电极表面发生活性物质吸脱附时，双电层电容发生急剧变化，形成吸脱附峰。 3.通过循环伏安法研究H在Pt电极上的吸脱附行为，从而得到Pt表面积的方法，前提是认为H的吸附峰电量就可以算出发生吸附的H的量（并且Pt和发生吸附的H是1:1的关系）。如果是这样的话，那么吸附部分对应的电流应该完全来自法拉第电流，也就是书中说的法拉第吸附。 我的问题是，在3中，明显是有活性物质的吸脱附行为的，那么应该会有电容变化引起的电流，在计算Pt表面积的时候为什么没有考虑，仅认为是法拉第电流引起电流峰？ |
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