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两个纳米压痕曲线
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liuyuexue
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两个纳米压痕曲线
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用磁控溅射在Si衬底上长得金属薄膜,厚度400纳米左右,用纳米压痕测试硬度.第一个是没处理的薄膜硬度随压入深度的变化,,第二个是离子注入后薄膜硬度.为什么前100纳米,曲线不一样呢,这个是有什么引起的.我知道前几十纳米是不稳定区,有尺寸效应影响,但是这个影响对两个样品应该一样啊.可曲线的形状完全不一样,所以不知道这两种形状是怎样引起的.
A0.jpg
A1.jpg
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tomorrowisanotherday
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2014-12-05 15:30:31
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2楼
2014-12-10 14:46:44
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liuyuexue
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2楼
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Originally posted by
TaoGG
at 2014-12-10 14:46:44
离子注入后,表面强化,硬度增加了。纳米压痕最大压入深度为膜层厚度5%~20%,你的400nm后,超过80~100nm的压入深度后就不准了,无论是1还是2图,都最后慢慢趋近于10GPa,这是因为单晶硅片的硬度在10GPa左右。图1起始 ...
谢谢这么详细的解答.但是我很费解为什么这两个曲线开始的形状不一样
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tomorrowisanotherday
3楼
2014-12-27 10:22:11
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