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hbc1234木虫 (小有名气)
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半导体表面的空间电荷与电场分布 已有2人参与
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半导体物理的课本中都会提到，表面附近存在空间电荷区，从而会有非零的电场随深度的分布。但是在叙述这一现象时，课本往往使用MIS结构进行讲解，即外加电压下，载流子重新分布，从而通过外加电场解泊松方程得到电场分布。但是，我觉得这一现象应该是由于表面态导致的，即使没有外加电压，空间电荷层应该依然存在。 请问，我的这种认识正确吗？如果正确，应该用什么方法计算或测量半导体表面的电场或电势分布？（如普通的单晶硅片） 我知道通过很多方法可以得到半导体表面的功函数，请问功函数和表面电场有什么联系吗？ 谢谢！ |
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6楼2014-11-19 12:48:28
2楼2014-11-17 21:50:09
hbc1234
木虫 (小有名气)
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3楼2014-11-18 09:27:03
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银虫 (正式写手)
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【答案】应助回帖
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hbc1234: 金币+5, ★★★很有帮助, 谢谢！ 2014-11-19 12:10:04
hbc1234: 金币+10, ★★★很有帮助, 感谢你多次回帖应助，但是只有这个回帖是应助贴，所以我把金币加在这了 2014-11-23 19:54:53
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表面态当然会造成电荷重新分布，但这本身也仍是费米面不平造成的。因为电子净的流动完全由费米面决定，（如果没有这一条规则，表面态也不会引起空间电荷区）费米面不平造成的电荷在空间上的积累是普遍的现象。两者并没有任何矛盾的地方。 在表面态影响显著的体系中，无非是不能简单用块体材料能带结构描述而已，最终电子是否重新排布，怎么排布还是由费米面决定 |
4楼2014-11-19 03:28:30
