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10jyu

新虫 (初入文坛)

[求助] 做接触式曝光发现线条边缘出现小线条是什么原因造成的啊? 已有2人参与

接触式曝光什么原因造成了线条边缘的这些小线条啊,求大神指教,以前没做过光刻,谢谢啊

做接触式曝光发现线条边缘出现小线条是什么原因造成的啊?
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做接触式曝光发现线条边缘出现小线条是什么原因造成的啊?-1
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做接触式曝光发现线条边缘出现小线条是什么原因造成的啊?-2
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jeremyfrc

木虫 (正式写手)

引用回帖:
6楼: Originally posted by 10jyu at 2014-10-29 17:50:32
我们这边目前只有这个胶,有什么可以推荐下吗?...

我觉得你可以试试AZ 3312 或者4330,我们这里都用这些。希望有用哈。
哈哈哈哈,来吧
7楼2014-10-31 00:22:45
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jeremyfrc

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
能不能描述一下,这是什么图?都没有写清楚,哪里是胶,哪里是你的材料,你的pattern是刻蚀的,还是liftoff的也没说。
哈哈哈哈,来吧
2楼2014-10-29 10:09:09
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10jyu

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by jeremyfrc at 2014-10-29 10:09:09
能不能描述一下,这是什么图?都没有写清楚,哪里是胶,哪里是你的材料,你的pattern是刻蚀的,还是liftoff的也没说。

这个是光刻胶显影后的结构,两种掩膜做的,第一张图片是用线条部分不透光的掩膜做的,第二和第三张是线条部分透光的掩膜做的,光刻胶是安智的GXR601正胶,图片就是光刻胶的结构,是衍射效应造成的吗?谢谢
3楼2014-10-29 10:31:51
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
10jyu: 金币+20, ★★★★★最佳答案, 谢谢 2014-10-29 11:42:35
引用回帖:
3楼: Originally posted by 10jyu at 2014-10-29 10:31:51
这个是光刻胶显影后的结构,两种掩膜做的,第一张图片是用线条部分不透光的掩膜做的,第二和第三张是线条部分透光的掩膜做的,光刻胶是安智的GXR601正胶,图片就是光刻胶的结构,是衍射效应造成的吗?谢谢...

是衍射造成的。次级峰的剂量形成的痕迹。说明灵敏度很高,但是对比度不好。
其实不用描述,仅仅从电镜图中左侧三角部分的方形扫描痕迹就知道是不是胶,就知道这是原始的光刻显影好的片子。
不明白2um的图形为什么要用601这个胶…………
4楼2014-10-29 11:10:48
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