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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 做接触式曝光发现线条边缘出现小线条是什么原因造成的啊？
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10jyu

新虫 (初入文坛)

[求助] 做接触式曝光发现线条边缘出现小线条是什么原因造成的啊？ 已有2人参与

接触式曝光什么原因造成了线条边缘的这些小线条啊，求大神指教，以前没做过光刻，谢谢啊

做接触式曝光发现线条边缘出现小线条是什么原因造成的啊？
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做接触式曝光发现线条边缘出现小线条是什么原因造成的啊？-1
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做接触式曝光发现线条边缘出现小线条是什么原因造成的啊？-2
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@lee0803

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1楼 2014-10-29 09:56:11
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10jyu

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by jeremyfrc at 2014-10-29 10:09:09
能不能描述一下，这是什么图？都没有写清楚，哪里是胶，哪里是你的材料，你的pattern是刻蚀的，还是liftoff的也没说。

这个是光刻胶显影后的结构，两种掩膜做的，第一张图片是用线条部分不透光的掩膜做的，第二和第三张是线条部分透光的掩膜做的，光刻胶是安智的GXR601正胶，图片就是光刻胶的结构，是衍射效应造成的吗？谢谢
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3楼2014-10-29 10:31:51
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jeremyfrc

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
能不能描述一下，这是什么图？都没有写清楚，哪里是胶，哪里是你的材料，你的pattern是刻蚀的，还是liftoff的也没说。
赞一下 回复此楼
哈哈哈哈，来吧
2楼2014-10-29 10:09:09
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yswyx

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
10jyu: 金币+20, ★★★★★最佳答案, 谢谢 2014-10-29 11:42:35
引用回帖:
3楼: Originally posted by 10jyu at 2014-10-29 10:31:51
这个是光刻胶显影后的结构，两种掩膜做的，第一张图片是用线条部分不透光的掩膜做的，第二和第三张是线条部分透光的掩膜做的，光刻胶是安智的GXR601正胶，图片就是光刻胶的结构，是衍射效应造成的吗？谢谢...

是衍射造成的。次级峰的剂量形成的痕迹。说明灵敏度很高，但是对比度不好。
其实不用描述，仅仅从电镜图中左侧三角部分的方形扫描痕迹就知道是不是胶，就知道这是原始的光刻显影好的片子。
不明白2um的图形为什么要用601这个胶…………
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4楼2014-10-29 11:10:48
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jeremyfrc

木虫 (正式写手)
引用回帖:
3楼: Originally posted by 10jyu at 2014-10-28 19:31:51
这个是光刻胶显影后的结构，两种掩膜做的，第一张图片是用线条部分不透光的掩膜做的，第二和第三张是线条部分透光的掩膜做的，光刻胶是安智的GXR601正胶，图片就是光刻胶的结构，是衍射效应造成的吗？谢谢...

感觉像是衍射造成的。没有用过电镜，不是非常清楚电镜的图是什么样的。不过你这个胶确实是非常小尺寸的胶，怎么说用来做2um的尺寸都是蛮可惜的。你可以用大尺寸的胶试试看。
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10jyu
哈哈哈哈，来吧
5楼2014-10-29 14:03:58
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