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做接触式曝光发现线条边缘出现小线条是什么原因造成的啊?
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10jyu
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做接触式曝光发现线条边缘出现小线条是什么原因造成的啊?
已有2人参与
接触式曝光什么原因造成了线条边缘的这些小线条啊,求大神指教,以前没做过光刻,谢谢啊
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lee0803
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1楼
2014-10-29 09:56:11
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jeremyfrc
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能不能描述一下,这是什么图?都没有写清楚,哪里是胶,哪里是你的材料,你的pattern是刻蚀的,还是liftoff的也没说。
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2楼
2014-10-29 10:09:09
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10jyu
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2楼
:
Originally posted by
jeremyfrc
at 2014-10-29 10:09:09
能不能描述一下,这是什么图?都没有写清楚,哪里是胶,哪里是你的材料,你的pattern是刻蚀的,还是liftoff的也没说。
这个是光刻胶显影后的结构,两种掩膜做的,第一张图片是用线条部分不透光的掩膜做的,第二和第三张是线条部分透光的掩膜做的,光刻胶是安智的GXR601正胶,图片就是光刻胶的结构,是衍射效应造成的吗?谢谢
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3楼
2014-10-29 10:31:51
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最佳答案, 谢谢
2014-10-29 11:42:35
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3楼
:
Originally posted by
10jyu
at 2014-10-29 10:31:51
这个是光刻胶显影后的结构,两种掩膜做的,第一张图片是用线条部分不透光的掩膜做的,第二和第三张是线条部分透光的掩膜做的,光刻胶是安智的GXR601正胶,图片就是光刻胶的结构,是衍射效应造成的吗?谢谢...
是衍射造成的。次级峰的剂量形成的痕迹。说明灵敏度很高,但是对比度不好。
其实不用描述,仅仅从电镜图中左侧三角部分的方形扫描痕迹就知道是不是胶,就知道这是原始的光刻显影好的片子。
不明白2um的图形为什么要用601这个胶…………
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4楼
2014-10-29 11:10:48
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3楼
:
Originally posted by
10jyu
at 2014-10-28 19:31:51
这个是光刻胶显影后的结构,两种掩膜做的,第一张图片是用线条部分不透光的掩膜做的,第二和第三张是线条部分透光的掩膜做的,光刻胶是安智的GXR601正胶,图片就是光刻胶的结构,是衍射效应造成的吗?谢谢...
感觉像是衍射造成的。没有用过电镜,不是非常清楚电镜的图是什么样的。不过你这个胶确实是非常小尺寸的胶,怎么说用来做2um的尺寸都是蛮可惜的。你可以用大尺寸的胶试试看。
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10jyu
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5楼
2014-10-29 14:03:58
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5楼
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jeremyfrc
at 2014-10-29 14:03:58
感觉像是衍射造成的。没有用过电镜,不是非常清楚电镜的图是什么样的。不过你这个胶确实是非常小尺寸的胶,怎么说用来做2um的尺寸都是蛮可惜的。你可以用大尺寸的胶试试看。...
我们这边目前只有这个胶,有什么可以推荐下吗?
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6楼
2014-10-30 08:50:32
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jeremyfrc
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Originally posted by
10jyu
at 2014-10-29 17:50:32
我们这边目前只有这个胶,有什么可以推荐下吗?...
我觉得你可以试试AZ 3312 或者4330,我们这里都用这些。希望有用哈。
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7楼
2014-10-31 00:22:45
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衍射吗?我怎么觉得像是显影过程中造成的轻微溶胀造成的啊
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8楼
2014-10-31 21:49:48
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