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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 光刻后腐蚀掉铁膜
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firstlaker

金虫 (正式写手)

[求助] 光刻后腐蚀掉铁膜 已有3人参与

如题。我想做铁膜的pattern，发现lift -off 工艺做得不是很好。pattern直径1um左右，厚度45nm,间距2um左右。磁控溅射镀膜后，再经电子束光刻，然后去掉基片上的未被胶覆盖的铁膜，有合适的溶液么？电子束光刻时要使用什么样的胶才好？
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@yswyx

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1楼 2014-09-25 10:33:45
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yswyx

专家顾问 (著名写手)
引用回帖:
10楼: Originally posted by firstlaker at 2014-09-26 18:11:57
哦。谢谢大神呀。我们这边好像没有IBE呀，倒是系里有个FIB，这个用FIB可以做么？就是直接用FIB在连续薄膜上打出图案来，可行么？
另外，苏州锐材可以加工，我只需要提供铁镍连续薄膜就行？...

可以代工。纳米所有IBE啊。
FIB也可以，但是成本高，速度慢啊。
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11楼2014-09-28 21:31:50
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lee0803

木虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
firstlaker: 金币+10, ★★★很有帮助 2014-09-26 12:38:55
用NaCl 溶液腐蚀，一般用置换反应来腐蚀铁。
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2楼2014-09-25 14:39:53
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exciting73

金虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

商家已经主动声明此回帖可能含有宣传内容
感谢参与，应助指数 +1
这么大的pattern没必要用电子束曝光吧？用普通的光刻胶就可以了，电子束胶比较贵。
为什么磁控溅射镀膜之后才进行电子束光刻？要用湿法腐蚀去掉铁膜吗？直接用lift-off工艺不好吗？
我们这边用普通光刻胶、电子束胶以及腐蚀液，有需要站内联系。
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3楼2014-09-25 16:15:29
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firstlaker

金虫 (正式写手)
引用回帖:
3楼: Originally posted by exciting73 at 2014-09-25 16:15:29
这么大的pattern没必要用电子束曝光吧？用普通的光刻胶就可以了，电子束胶比较贵。
为什么磁控溅射镀膜之后才进行电子束光刻？要用湿法腐蚀去掉铁膜吗？直接用lift-off工艺不好吗？
我们这边用普通光刻胶、电子束 ...

1um的话，光刻就比较困难了。
lift-off工艺做出来的，往往再磁控溅射后边缘质量很差，有几百个纳米高，这样的pattern不符合我们的要求。
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4楼2014-09-25 17:19:42
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