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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 功能薄膜 » PEM镀膜系统， 光谱相对强度与反应气体的变化规律？由图有真相
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selfstudy

新虫 (初入文坛)

[交流] PEM镀膜系统， 光谱相对强度与反应气体的变化规律？由图有真相 已有1人参与

对进口的某 4靶非平衡镀膜系统进行分析， 自制了反应气体的控制器。

在调整控制系统算法时发现， 如果反应气体没有按照要求控制住， 光谱相对强度反而是升高的？  请问是这是什么原因？

依照 BERG 分析模型， 反应气体控制不住，如反应气体增加过多，则应该是  工作在化合物模式，则 溅射的靶原子应该少，光谱强度应该低。 实际上是光谱强度增大了。

请看 控制曲线的后半部分， 如果算法不合理， 光谱相对强度反而升高了。 我不知道具体的机理是什么？

PEM镀膜系统， 光谱相对强度与反应气体的变化规律？由图有真相
2014-09-23_164018.jpg
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1楼 2014-09-23 16:42:18
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selfstudy

新虫 (初入文坛)
是不是发错板块了，没有人理我呢。
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2楼2014-09-23 17:21:24
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ggtech

铁虫 (小有名气)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
一般情况下，溅射出的靶原子浓度只与溅射气体的浓度有关，与反应气体的浓度关系不大；
反应气体的浓度升高，表征该反应气体的原子光谱肯定增强，与化合态/金属态没有关系。
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gtech
3楼2014-09-24 13:52:16
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selfstudy

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
3楼: Originally posted by ggtech at 2014-09-24 13:52:16
一般情况下，溅射出的靶原子浓度只与溅射气体的浓度有关，与反应气体的浓度关系不大；
反应气体的浓度升高，表征该反应气体的原子光谱肯定增强，与化合态/金属态没有关系。

谢谢。 终于得到答复了。
1 离子确实由 溅射气体来决定，但是控制时，通入的氩气流量是恒定的；

2 反应气体的多少决定了 溅射模式和光谱强度的。

  控制中能够让光谱强度按照镀膜曲线走。 只是失败的控制案例中，为什么 反应气体即使通到最大，光谱强度还是 达到一个恒定值 85%。 这与 berg的模型不对。

上述图片是我的试验控制曲线，是失败的案例，我只是想知道 原因。

修正后的控制方法，可以保证光谱强度在35~85%间稳定的。
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4楼2014-09-24 17:43:50
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selfstudy

新虫 (初入文坛)
是不是大家不用PEM方式进行镀膜实验啊？？
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5楼2014-09-29 08:51:06
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