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PEM镀膜系统， 光谱相对强度与反应气体的变化规律？由图有真相 已有1人参与
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对进口的某 4靶非平衡镀膜系统进行分析， 自制了反应气体的控制器。 在调整控制系统算法时发现， 如果反应气体没有按照要求控制住， 光谱相对强度反而是升高的？ 请问是这是什么原因？ 依照 BERG 分析模型， 反应气体控制不住，如反应气体增加过多，则应该是 工作在化合物模式，则 溅射的靶原子应该少，光谱强度应该低。 实际上是光谱强度增大了。 请看 控制曲线的后半部分， 如果算法不合理， 光谱相对强度反而升高了。 我不知道具体的机理是什么？  2014-09-23_164018.jpg |
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