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在小槽里刻蚀硅片冒气泡阻止反应能有什么方法除气泡吗 已有4人参与
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各位大神，我想在内直径只有3.4厘米的聚四氟乙烯槽中金属辅助刻蚀硅片（实验需要），但由于反应产生大量气泡聚集在硅片上方阻止了反应。所以在很长的反应过程中需要时不时用滴管向槽中吸液吹液，非常麻烦。能不能用其他方法或者自制什么装置可以实现自动去除气泡呢？求助啊，一整天对着HF很伤啊 ，而且反应过程不好控制~各位拜托了，帮忙想个办法！！ |
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无机化学论文润色/翻译怎么收费?
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yswyx 
专家顾问 (著名写手)
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5楼2014-09-06 00:42:03
reninhat
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2楼2014-09-03 09:53:03
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3楼2014-09-03 13:46:56
4楼2014-09-05 16:05:52
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