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lizhongjian

新虫 (初入文坛)

[求助] 磁控溅射镀膜 已有1人参与

磁控溅射镀膜时,对基片加热,为什么腔室气压会降低?
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mudaguang

金虫 (小有名气)

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对基片加热,真空室温度也会升高,在体积不变的情况下气体受热膨胀,按理来说应该是气压增大才是,我之前做实验对真空室进行过烘烤,同样是压强变大,但这与对基片加热效果应该是一样的,你确定是降低了?
认真对待每一件事情
2楼2014-07-31 17:07:36
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lizhongjian

新虫 (初入文坛)

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2楼: Originally posted by mudaguang at 2014-07-31 17:07:36
对基片加热,真空室温度也会升高,在体积不变的情况下气体受热膨胀,按理来说应该是气压增大才是,我之前做实验对真空室进行过烘烤,同样是压强变大,但这与对基片加热效果应该是一样的,你确定是降低了?

就是降低了才觉得奇怪,对基片进行加热350度,会降低0.2帕左右。每次都这样。

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3楼2014-07-31 22:32:25
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mudaguang

金虫 (小有名气)

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引用回帖:
3楼: Originally posted by lizhongjian at 2014-07-31 22:32:25
就是降低了才觉得奇怪,对基片进行加热350度,会降低0.2帕左右。每次都这样。
...

你所说的压强减小,是加热后压强立即减小,还是抽真空一段时间后变小,如果是后者就是正常的,前一种情况的话就异常了。
认真对待每一件事情
4楼2014-08-01 14:03:06
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lizhongjian

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
4楼: Originally posted by mudaguang at 2014-08-01 14:03:06
你所说的压强减小,是加热后压强立即减小,还是抽真空一段时间后变小,如果是后者就是正常的,前一种情况的话就异常了。...

磁控溅射过程中真空是一直抽着的,同时通入氩气。调好稳定气压3帕。但是对基片进行加热,气压会降低。溅射过程中会继续降低。这是怎么回事儿?

[ 发自小木虫客户端 ]
5楼2014-08-01 15:53:03
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