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1楼2014-07-31 16:48:15

mudaguang

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【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1

对基片加热，真空室温度也会升高，在体积不变的情况下气体受热膨胀，按理来说应该是气压增大才是，我之前做实验对真空室进行过烘烤，同样是压强变大，但这与对基片加热效果应该是一样的，你确定是降低了？

认真对待每一件事情

2楼2014-07-31 17:07:36

lizhongjian

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2楼: Originally posted by mudaguang at 2014-07-31 17:07:36
对基片加热，真空室温度也会升高，在体积不变的情况下气体受热膨胀，按理来说应该是气压增大才是，我之前做实验对真空室进行过烘烤，同样是压强变大，但这与对基片加热效果应该是一样的，你确定是降低了？

就是降低了才觉得奇怪，对基片进行加热350度，会降低0.2帕左右。每次都这样。

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3楼2014-07-31 22:32:25

mudaguang

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引用回帖:

3楼: Originally posted by lizhongjian at 2014-07-31 22:32:25
就是降低了才觉得奇怪，对基片进行加热350度，会降低0.2帕左右。每次都这样。
...

你所说的压强减小，是加热后压强立即减小，还是抽真空一段时间后变小，如果是后者就是正常的，前一种情况的话就异常了。

认真对待每一件事情

4楼2014-08-01 14:03:06

lizhongjian

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4楼: Originally posted by mudaguang at 2014-08-01 14:03:06
你所说的压强减小，是加热后压强立即减小，还是抽真空一段时间后变小，如果是后者就是正常的，前一种情况的话就异常了。...

磁控溅射过程中真空是一直抽着的，同时通入氩气。调好稳定气压3帕。但是对基片进行加热，气压会降低。溅射过程中会继续降低。这是怎么回事儿？

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5楼2014-08-01 15:53:03