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lizhongjian

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磁控溅射镀膜时，对基片加热，为什么腔室气压会降低？

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1楼 2014-07-31 16:48:15

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mudaguang

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【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1

对基片加热，真空室温度也会升高，在体积不变的情况下气体受热膨胀，按理来说应该是气压增大才是，我之前做实验对真空室进行过烘烤，同样是压强变大，但这与对基片加热效果应该是一样的，你确定是降低了？

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认真对待每一件事情

2楼2014-07-31 17:07:36

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lizhongjian

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引用回帖:

2楼: Originally posted by mudaguang at 2014-07-31 17:07:36
对基片加热，真空室温度也会升高，在体积不变的情况下气体受热膨胀，按理来说应该是气压增大才是，我之前做实验对真空室进行过烘烤，同样是压强变大，但这与对基片加热效果应该是一样的，你确定是降低了？

就是降低了才觉得奇怪，对基片进行加热350度，会降低0.2帕左右。每次都这样。

[ 发自小木虫客户端 ]

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3楼2014-07-31 22:32:25

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