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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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851226

金虫 (正式写手)

[求助] BaTiO3 磁控溅射 怎么样才能得到结晶薄膜 求指导

各位大神好！最近刚刚接触磁控溅射。。。想做钛酸钡的溅射。但是总是得到非晶膜。
第一次均在衬底是室温下溅射的，得到的都是非晶薄膜，700-900°C退火以后一堆杂峰。
第二次做之前查阅了一下文献，发现需要在衬底高温下进行溅射。于是调整工艺参数。
条件如下：
仪器 PVD Products
靶材 3 inch， 也就是7.5 cm直径， 功率 70W， 算的功率密度约为1.59W/cm2
气氛 Ar/O2 4:1 (流速20sccm：5sccm) 气压试过5mTorr 和15mTorr；
衬底用的Si/5 nm Cr/30 nm Pt，衬底温度设定700 实际温度为660，升温速度25/min, 降温15/min
靶到衬底的距离为12cm
溅射1.5小时得到45nm左右厚的薄膜，即是说大约为0.5 nm/min。
溅射出来的，仍然是非晶。
800下快速退火，得到的XRD跟第一次室温溅射后退火的XRD一样。。。貌似有一点钛酸钡但是大部分都是不知道什么归属的杂峰，且杂峰为主。。。
盼望有经验的大神挑一下到底是什么毛病，指导一下
XRD请看附图

我同时还尝试溅射了钴铁氧。室温下溅射得到的非晶，退火后乱七八糟。但是衬底升温至350℃时就得到了钴铁氧的结晶薄膜了。钴铁氧的溅射条件中，只有气氛和温度不一样，其他均一样。用的是纯氩气。条件是：
靶材 3 inch， 功率 70W， 算的功率密度约为1.59W/cm2
气氛 Ar (流速20sccm) 气压 5mTorr；
衬底用的Si/5 nm Cr/30 nm Pt，衬底温度350-650
靶到衬底的距离为12cm
溅射1.5小时得到60nm左右厚的薄膜。

同样是溅射 差距咋这么大呢
BaTiO3 磁控溅射 怎么样才能得到结晶薄膜 求指导
求助BaTiO3.jpg
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1楼 2014-07-11 19:51:52
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851226

金虫 (正式写手)
引用回帖:
2楼: Originally posted by lsx2121 at 2014-07-18 21:18:54
BaTiO3 你做镀膜的时候补一些氧气。 成结晶体膜，估计还是镀膜过程中，基底需要加热。
你现在实际基底已经是660度。 究竟基底加热到多少度，才能做出洁晶膜，需要查一下资料。
看看基底是否需要加热到800度 。
...

谢谢。我知道是什么问题了。功率不够。现在已经解决了。
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3楼2014-07-24 04:44:26
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lsx2121

捐助贵宾 (小有名气)
BaTiO3 你做镀膜的时候补一些氧气。 成结晶体膜，估计还是镀膜过程中，基底需要加热。
你现在实际基底已经是660度。 究竟基底加热到多少度，才能做出洁晶膜，需要查一下资料。
看看基底是否需要加热到800度 。
镀膜后，在真空腔室内直接退火。
赞一下 回复此楼
2楼2014-07-18 21:18:54
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我就是me

新虫 (初入文坛)
请教一下，功率密度的计算公式是什么呀，不胜感激
赞一下 回复此楼
踏实认真
4楼2016-06-20 21:38:40
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花生蛋

铜虫 (初入文坛)
引用回帖:
3楼: Originally posted by 851226 at 2014-07-24 04:44:26
谢谢。我知道是什么问题了。功率不够。现在已经解决了。...

功率多少才能结晶

发自小木虫IOS客户端
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路漫漫 途条条
5楼2017-10-26 20:17:09
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查看全部 6 个回答
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