| 查看: 1639 | 回复: 7 | |||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | |||
[求助]
钛酸钡 磁控溅射 衬底升温至660℃依然得到非晶膜。求问什么原因？ 已有1人参与
|
|||
各位大神好！最近刚刚接触磁控溅射。。。想做钛酸钡的溅射。但是总是得到非晶膜。 第一次均在衬底是室温下溅射的，得到的都是非晶薄膜，700-900°C退火以后一堆杂峰。 第二次做之前查阅了一下文献，发现需要在衬底高温下进行溅射。于是调整工艺参数。 条件如下： 仪器 PVD Products 靶材 3 inch， 也就是7.5 cm直径， 功率 70W， 算的功率密度约为1.59W/cm2 气氛 Ar/O2 4:1 (流速20sccm：5sccm) 气压试过5mTorr 和15mTorr； 衬底用的Si/5 nm Cr/30 nm Pt，衬底温度设定700 实际温度为660，升温速度25/min, 降温15/min 靶到衬底的距离为12cm 溅射1.5小时得到45nm左右厚的薄膜，即是说大约为0.5 nm/min。 溅射出来的，仍然是非晶。 800下快速退火，得到的XRD跟第一次室温溅射后退火的XRD一样。。。 貌似有一点钛酸钡但是大部分都是不知道什么归属的杂峰，且杂峰为主。。。盼望有经验的大神挑一下到底是什么毛病，指导一下  XRD请看附图 我同时还尝试溅射了钴铁氧。室温下溅射得到的非晶，退火后乱七八糟。但是衬底升温至350℃时就得到了钴铁氧的结晶薄膜了。钴铁氧的溅射条件中，只有气氛和温度不一样，其他均一样。用的是纯氩气。条件是： 靶材 3 inch， 功率 70W， 算的功率密度约为1.59W/cm2 气氛 Ar (流速20sccm) 气压 5mTorr； 衬底用的Si/5 nm Cr/30 nm Pt，衬底温度350-650 靶到衬底的距离为12cm 溅射1.5小时得到60nm左右厚的薄膜。 同样是溅射 差距咋这么大呢  求助BTO.jpg |
回复此楼» 收录本帖的淘帖专辑推荐
 真空镀膜类技术资料 |
» 猜你喜欢
296求调剂
已经有4人回复
-
333求调剂
已经有11人回复
-
材料专硕 335 分求调剂
已经有3人回复
-
07化学303求调剂
已经有3人回复
-
北科281学硕材料求调剂
已经有13人回复
-
289求调剂
已经有11人回复
-
网络空间安全0839招调剂
已经有5人回复
-
材料277求调剂
已经有4人回复
-
274求调剂
已经有7人回复
-
085600 材料与化工 329分求调剂
已经有3人回复
匿名 
用户注销 (著名写手)
- 应助: 2 (幼儿园)
- 金币: 1896.5
- 散金: 1925
- 红花: 9
- 帖子: 1658
- 在线: 305.2小时
- 虫号: 0
- 注册: 2013-08-10
- 性别: GG
- 专业: 半导体晶体与薄膜材料
6楼2017-11-03 16:54:11
2楼2014-07-24 04:45:43
彬彬3028
木虫 (正式写手)
- 应助: 5 (幼儿园)
- 金币: 1876.5
- 散金: 1206
- 红花: 3
- 帖子: 536
- 在线: 113.5小时
- 虫号: 1613017
- 注册: 2012-02-12
- 性别: GG
- 专业: 半导体材料
3楼2014-07-24 09:13:11
4楼2014-09-11 17:03:38
