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钛酸钡 磁控溅射 衬底升温至660℃依然得到非晶膜。求问什么原因？ 已有1人参与
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各位大神好！最近刚刚接触磁控溅射。。。想做钛酸钡的溅射。但是总是得到非晶膜。 第一次均在衬底是室温下溅射的，得到的都是非晶薄膜，700-900°C退火以后一堆杂峰。 第二次做之前查阅了一下文献，发现需要在衬底高温下进行溅射。于是调整工艺参数。 条件如下： 仪器 PVD Products 靶材 3 inch， 也就是7.5 cm直径， 功率 70W， 算的功率密度约为1.59W/cm2 气氛 Ar/O2 4:1 (流速20sccm：5sccm) 气压试过5mTorr 和15mTorr； 衬底用的Si/5 nm Cr/30 nm Pt，衬底温度设定700 实际温度为660，升温速度25/min, 降温15/min 靶到衬底的距离为12cm 溅射1.5小时得到45nm左右厚的薄膜，即是说大约为0.5 nm/min。 溅射出来的，仍然是非晶。 800下快速退火，得到的XRD跟第一次室温溅射后退火的XRD一样。。。 貌似有一点钛酸钡但是大部分都是不知道什么归属的杂峰，且杂峰为主。。。盼望有经验的大神挑一下到底是什么毛病，指导一下  XRD请看附图 我同时还尝试溅射了钴铁氧。室温下溅射得到的非晶，退火后乱七八糟。但是衬底升温至350℃时就得到了钴铁氧的结晶薄膜了。钴铁氧的溅射条件中，只有气氛和温度不一样，其他均一样。用的是纯氩气。条件是： 靶材 3 inch， 功率 70W， 算的功率密度约为1.59W/cm2 气氛 Ar (流速20sccm) 气压 5mTorr； 衬底用的Si/5 nm Cr/30 nm Pt，衬底温度350-650 靶到衬底的距离为12cm 溅射1.5小时得到60nm左右厚的薄膜。 同样是溅射 差距咋这么大呢  求助BTO.jpg |
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2楼2014-07-24 04:45:43
彬彬3028
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