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shensuling

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[求助] 200℃在氮气氛围下退火silicon

求问：
200℃在氮气氛围下退火silicon ，silicon是用HF处理过的，请问silicon的表面会发生什么变化？可以进行合理的推测！！

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1楼 2014-07-07 15:05:28

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peterflyer

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peterflyer

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【答案】应助回帖

200℃在氮气氛围下退火的硅应该不会发生任何化学变化。如果硅是刚刚用HF处理过的，表面还来不及氧化，那么表面应该是纯硅。纯硅和氮气在200度下应该无任何反应，但也不会扩散或渗透进硅表面，因为温度毕竟太低了。

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2楼2014-07-07 16:00:10

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shensuling

铁虫 (初入文坛)

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引用回帖:

2楼: Originally posted by peterflyer at 2014-07-07 16:00:10
200℃在氮气氛围下退火的硅应该不会发生任何化学变化。如果硅是刚刚用HF处理过的，表面还来不及氧化，那么表面应该是纯硅。纯硅和氮气在200度下应该无任何反应，但也不会扩散或渗透进硅表面，因为温度毕竟太低了。

可是我做过一些测试退火前后的性质确实不一样退火后性质提升我还在郁闷找不到原因？？

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3楼2014-07-07 17:04:10

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