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电化学用氯铂酸沉积铂
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于轩
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电化学用氯铂酸沉积铂
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我想用电化学用氯铂酸在ITIO上沉积一层铂,沉积厚度在10nm或者以下,请问我应该加多大电压(相对于Ag/AgCl),沉积时间是多少,以及氯铂酸的浓度。
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1楼
2014-06-26 11:16:10
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davidbear910
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Originally posted by
于轩
at 2014-06-27 14:59:34
我用的-0.3V vs Ag/AgCl, 沉积100秒,ITO表面不是亮色的而是黑色的是怎么回事?...
亮色?不会吧,纳米铂应该是黑褐色的
[ 发自小木虫客户端 ]
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4楼
2014-06-27 16:22:57
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2014-06-27 14:58:25
这个貌似得摸索一下。我试过恒电位沉积。电位在-0.4.但是我没有做表征,不知道厚度是多少。用的是1%的氯铂酸
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2楼
2014-06-27 10:11:56
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2楼
:
Originally posted by
davidbear910
at 2014-06-27 10:11:56
这个貌似得摸索一下。我试过恒电位沉积。电位在-0.4.但是我没有做表征,不知道厚度是多少。用的是1%的氯铂酸
我用的-0.3V vs Ag/AgCl, 沉积100秒,ITO表面不是亮色的而是黑色的是怎么回事?
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3楼
2014-06-27 14:59:34
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2014-06-29 15:46:14
10nm以下均匀的很难做的,电沉积很容易就长得很大,对Pt,Au都蛮明显的,黑褐色基本晶粒都大于20nm了,很均匀的10nm左右的应该会有金属反光的。话说这个尺度最好做的是磁控溅射啊,ITO的晶粒都不止10nm了一般
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5楼
2014-06-28 00:42:51
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