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电化学沉积硅时，为什么循环伏安和线性伏安都没有出峰，而差分脉冲时会有峰出现？
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如题，电解质是四氯化硅，想做电沉积，文献是线性伏安在-2.5V左右出还原峰，但实验时循环伏安和线性扫描都没出峰，只是差分脉冲时有一个不算峰的峰，三种方法折腾了几遍，还是这样，但最终有硅沉积出来了。。。。不解的是差分脉冲似乎比其他两种方法灵敏？？ 刚开始以为是波动 后面扫了几次都是这样  循环伏安也基本是这样 |
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