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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 金属 » 交流互助 » 关于XRD试样去除表面应力
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千里千寻373

银虫 (正式写手)

[求助] 关于XRD试样去除表面应力 已有2人参与

我用了电解抛光去除XRD试样的表面应力，但是处理完之后的XRD结果与抛光前有差异，峰强都变了(类似于产生织构)。。。。关于XRD试样表面应力应该如何去除？哪位有相关经验。。。。。
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好好学习天天向上
1楼 2014-06-15 16:28:50
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攀西阳光

新虫 (著名写手)
引用回帖:
3楼: Originally posted by 千里千寻373 at 2014-06-15 17:22:37
普通的机械抛光+化学侵蚀就可以吗？...

根据本人的所学，电解抛光应该是最适合去除应力层的方法，会不会楼主第二次的结果反而是更准确的？？
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4楼2014-06-16 03:27:47
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攀西阳光

新虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
千里千寻373: 金币+10 2014-06-19 10:22:45
楼主可试试OPS(oxide polishing suspension) 抛光,机械抛光加少量化学侵蚀祛除应力层。
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2楼2014-06-15 17:06:39
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千里千寻373

银虫 (正式写手)
引用回帖:
2楼: Originally posted by 攀西阳光 at 2014-06-15 17:06:39
楼主可试试OPS(oxide polishing suspension) 抛光,机械抛光加少量化学侵蚀祛除应力层。

普通的机械抛光+化学侵蚀就可以吗？
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好好学习天天向上
3楼2014-06-15 17:22:37
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peterflyer

木虫之王 (文学泰斗)

peterflyer

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
应该说电解抛光后进行的XRD可能更切合实际一些。抛光前的应该是基体材料的和盈利造成的影响的叠加。
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5楼2014-06-17 09:38:14
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