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电沉积氧化亚铜，想请问下小木虫大神 已有2人参与
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1.在做电沉积氧化亚铜的时候，不知道大家是通过什么样的方法来控制薄膜厚度，我看到文献上大部分的都是通过控制时间来控制薄膜厚度，但是个人觉得是应该根据法拉第定律，通过沉积电量来控制薄膜的厚度。不知道这个想法有没有错 2.在做电沉积氧化亚铜的过程中，有时候电量很大，但是ITO玻璃上却并没有得到薄膜。不知道这是什么原因，所以想请教各位大神。 3.如果发生了有电量却在ITO上并没有得到薄膜的时候，我们应该通过其他什么样的方法来控制薄膜厚度。 |
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gxytju2008
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gaoxin870605
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