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漫步云端2011

新虫 (小有名气)

[交流] ICP-MS日常维护

我正在学习ICP-MS,想和大家交流一下这种仪器的日常维护问题。请大家多多指教

           1、在每次做样前的调谐阶段,有什么需要注意的?
      2、调谐过程中的氧化物Ce+/CeO和双电荷的参数是看干扰情况的么?如果这两个参数超出了规定的范围,要怎么解决?
           3、在测试样品的时候,内标回收超过80%-120%的范围是什么问题?如果内标回收的RSD经常超过了5%是表示仪器的干扰很多,需要清洗么?
           4、ICP-MS对实验环境的要求比较高,那么什么样的湿度和温度是仪器适应的?
      5、如果把原子吸收和ICP放在一起,会不会对测试结果影响很大?
      6、在用ICP测重金属含量的时候,如果只选择了丰度最大的那种元素进行测量,那么总金属含量需要用测得的值除以丰度么?
      7、同样的样品,用ICP测得的金属含量会和原子吸收测得的金属含量有很大差别么?
      8、在整个ICP的日常维护中,有哪些问题是需要特别注意的?
      9、对ICP的进样管,内标管的更换,有没有固定的期限?锥的清洗有没有特别要求,一般多久清洗一次?
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jeangong

木虫之王 (文学泰斗)

祝福楼主!!祝福楼主!!祝福楼主!!
6楼2014-05-28 19:14:38
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anlongstar

木虫 (文坛精英)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
祝福送上~~~~~~~~~~~~~~~~~~~
4楼2014-05-27 23:49:48
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xiaoyuyxy

木虫 (正式写手)

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
漫步云端2011: 金币+10, 非常改写你的解答,很有帮助 2014-05-28 20:34:15
逐条回复:
1.调谐阶段,注意灵敏度是否正常、质量轴是否偏移、双电荷产率及氧化物产率是否正常;
2.是的,两者皆是MS干扰,通常氧化物产率主要与载气流量有关,双电荷与锥体干净程度有关,当然也跟采样深度有关;
3.内标的回收偏低,考虑基体浓度是否过大,可将样品稀释后观察内标强度是否按相应比例变化,内标回收偏高,排除仪器漂移后,考虑样品中是否含有该元素或者是否存在干扰离子(氧化物或双电荷等);如果内标RSD经常偏高,考虑雾化部分以及锥孔是否积盐;
4温度通常20-25,湿度通常小于75%,且不结露;
5.分析仪器最好不要挨得过近;
6.不用,因为做标线的时候也是用丰度最大的同位素进行测定的;
7.这个要看是否存在干扰,如果没有,结果应该相差不大;
8.日常维护这块,主要集中在进样系统、双锥,注意雾化器不能超声清洗,锥不要长时间超声;
9.内标管是否更换要看你使用频率,没有固定期限;锥的清洗也是根据使用频率而定,通常看着变黑、发蓝或积盐,拆下来洗洗
5楼2014-05-28 18:30:51
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漫步云端2011

新虫 (小有名气)

引用回帖:
5楼: Originally posted by xiaoyuyxy at 2014-05-28 18:30:51
逐条回复:
1.调谐阶段,注意灵敏度是否正常、质量轴是否偏移、双电荷产率及氧化物产率是否正常;
2.是的,两者皆是MS干扰,通常氧化物产率主要与载气流量有关,双电荷与锥体干净程度有关,当然也跟采样深度有关; ...

还有一个问题想问一下,如果原子吸收和ICP放一起,那么原子吸收的做样时,会不会有粉尘这些影响ICP的正常使用?
7楼2014-05-28 20:36:14
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