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lzg919530615金虫 (正式写手)
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[求助]
进行光刻之后的刻蚀，有什么腐蚀液能刻蚀掉ITO，而不跟SiO2、SnO2反应？ 已有7人参与
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| 进行光刻之后的刻蚀，有什么腐蚀液能刻蚀掉ITO，而不跟SiO2、SnO2反应呢？谢谢！ |
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 导电物 |
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caoxiafei
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研发工程师-Topcon/HJT电池
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【答案】应助回帖
感谢参与，应助指数 +1
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http://www.zh-kv.com/Kaivo/TechView.asp?ID=22&SortID=20 腐蚀液的主要成分是一种王水（HCl+HNO3混合液），ITO主要成分In2O3：SnO2=9:1的固溶体，In2O3与SiO2、SnO2相比，化学稳定性要差很多，所以可以保证腐蚀液在腐蚀ITO时，不会腐蚀玻璃的SiO2阻挡层。 |
5楼2014-05-22 11:07:04
exciting73 
金虫 (著名写手)
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2楼2014-05-21 21:57:39
邪恶的大肉丸
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3楼2014-05-22 07:35:46
dianbo118
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- 专业: 半导体材料
铟锡氧化物是掺杂滴，要去除肯定一起没了亲 4楼2014-05-22 11:07:00
