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夜空守望者2

金虫 (小有名气)

[求助] 为什么利用Stober法制得的纳米SiO2表面含有大量的硅羟基 已有1人参与

请问各位虫友，为什么利用Stober法制得的纳米SiO2表面含有大量的硅羟基，接枝率怎么通过热重曲线计算，还有类似Stober法这种比较经典的制备核壳结构的SiO2的方法，求指教。文献可以给我链接，谢谢啦
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1楼 2014-05-06 18:36:05
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yunhuang

金虫 (小有名气)
引用回帖:
3楼: Originally posted by 夜空守望者2 at 2014-05-07 20:17:11
谢谢您的回复，再请教一下，那为什么写分子式的时候只有Si，O而不把氢加上，呵呵~如果把SiO2放到酸性溶液里，硅羟基就没有了吗？在做XPS时，也没发现有H元素啊，您能再详细的说说为什么存在硅羟基吗。谢谢了...

因为氧化硅类似于金属氧化物在极性溶剂中会吸附溶剂中的氢离子或者氢氧根离子。一般情况下，金属氧化物表层具有两亲性质，虽体系pH值的不同，会使得分散相体系中的粒子表面带有不同的电荷。凡经过化学反应用凝聚法（stober法）制得的溶胶（这里指氧化硅粒子），电荷来源于离子的选择吸附。那你可以想想，stober法制备胶体微粒的时候，反应体系是什么样的pH环境啊？
至于您说的XPS能谱分析，我因为是高分子材料的，并没有这方面的研究，但是我知道在做XPS时，H, He这两个元素是不能够被检测到的。您需要从基本理论上理解一下XPS哦！嗬嗬
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4楼2014-05-07 22:32:58
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yunhuang

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

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感谢参与，应助指数 +1
夜空守望者2: 金币+50, ★★★很有帮助 2014-05-07 20:12:23
个人觉得您的问题问得不对吧?难道你用其他方法制备的氧化硅球在溶液当中表面就没有硅羟基么?
个人认为一般的物质在自然界中表面都会出现一定的氧化层,而在碱性溶液中会在氧化层的表面出现羟基.这个现在不仅在氧化硅中存在,在其他的金属氧化物当中也会存在的,譬如氧化铁,氧化钛等.
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2楼2014-05-07 18:42:13
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夜空守望者2

金虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by yunhuang at 2014-05-07 18:42:13
个人觉得您的问题问得不对吧?难道你用其他方法制备的氧化硅球在溶液当中表面就没有硅羟基么?
个人认为一般的物质在自然界中表面都会出现一定的氧化层,而在碱性溶液中会在氧化层的表面出现羟基.这个现在不仅在氧化硅 ...

谢谢您的回复，再请教一下，那为什么写分子式的时候只有Si，O而不把氢加上，呵呵~如果把SiO2放到酸性溶液里，硅羟基就没有了吗？在做XPS时，也没发现有H元素啊，您能再详细的说说为什么存在硅羟基吗。谢谢了
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3楼2014-05-07 20:17:11
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yunhuang

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

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夜空守望者2: 金币+50, ★★★★★最佳答案 2014-05-08 18:27:37
为了拿到你剩下的那50金币，给你介绍一本中文的书吧。化学工业出版社 纳米分体的分散及表面改性
您应该可以在里面找到相关的答案的。
加油！
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夜空守望者2
5楼2014-05-07 22:41:09
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