| 查看: 317 | 回复: 1 | ||
[求助]
文献求助： Interfacial Layer Development for 20nm High-k Last Integration Scheme
|
|
文献求助：Full Text (PDF) Interfacial Layer Development for 20nm High-k Last Integration Scheme ECS Trans. 2014 60(1): 727-731; 感激不尽 Full Text (PDF) Han Jie Gao, Jie Zhao, Jia Hua Min, Yi Zhi Zeng, Kurban Awut, Woei Ji Song, and Shao Feng Yu Interfacial Layer Development for 20nm High-k Last Integration Scheme ECS Trans. 2014 60(1): 727-731; |
回复此楼» 猜你喜欢
西北农林科技大学刘文林课题组招聘博士研究生
已经有4人回复
-
NTU材料系招聘CSC访问博士生
已经有12人回复
-
有机高分子材料论文润色/翻译怎么收费?
已经有251人回复
-
南洋理工大学材料系-吴荣辉课题组招聘
已经有12人回复
-
南洋理工大学招聘2027全奖博士和CSC访问学者
已经有14人回复
-
求助MOF-253晶体结构的cif文件，非常感谢！
已经有0人回复
-
请问哪位大佬有宝钢2026年的最新热冲压标准，包含这些内容
已经有0人回复
-
东北大学-招收27届博士生
已经有11人回复
-
东北大学-金属材料方向-招收27届博士生
已经有24人回复
2楼2014-04-08 15:06:59
