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AAO模板电镜测试溶解处理问题
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AAO模板沉积电化学沉积完纳米线后，我把镀金层用导电胶黏在铜片上然后放在3M的氢氧化钠溶液中溶解20~30min，然后再用去离子水洗涤（放在水中震荡烧杯）三到五遍，放真空干燥箱抽真空常温或者50摄氏度干燥。然后直接连铜片一起放电镜下观察纳米线阵列，但是样品老是会出现浆糊状的东西会糊住端口，甚至纳米线整个都会被糊住，如图中我红色箭头标记的地方。 请问各位有没有遇到过类似问题的呢？不清楚是什么原因造成的，可能的原因和解决办法有下面几个 1、有文献提到过可能是氧化铝溶解后生成的片铝酸钠在水洗时候pH降低使偏铝酸钠水解成氢氧化铝沉淀重新糊住端口；-----我用3M的氢氧化钠溶解玩后再用1M的氢氧化钠再洗涤三次后再用去离子洗涤三到五遍，但还是情况基本还是一样。 2、溶解和洗涤的时候溶液或水与模板的接触不充分-----我在溶解和洗涤的时候用胶头滴管轻轻吹打模板表面，结果除了纳米线被吹掉点外没有其他变化 3、如果是不黏在铜片上的完全溶解，即把模板直接放在氢氧化钠中溶解，然永磁铁吸住换水洗涤。这种情况处理的样品一般就没有浆糊状的东西黏在样品表面，同样条件在黏在铜片上溶解时就不行了 4、如果换成铬酸和磷酸混合溶液加热溶解，除了溶解速度慢外不会有浆糊状的东西黏在表面，但问题是会腐蚀我的纳米线，所以这个方法也不能采用 5、提高溶解的温度或者延长时间；---曾经试过水浴40度和延长时间至60min的，加热的话纳米线腐蚀比较严重，延长时间至60名会有轻微的腐蚀 有没有遇到类似情况的，求支招的啊  $IL]8F0LPR8JOWY5X98EW~S.jpg  M20ICLC%UQ~P}EF[@1{OU(F.jpg  _06HQSQFI1[_1~G%5H{PSPB.jpg |
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未末星亦
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