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汕头大学海洋科学接受调剂
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liguozun

银虫 (小有名气)

[交流] 磁控溅射 已有8人参与

磁控溅射设备的偏压和反射功率有什么关系吗  我做实验发现偏压小反射功率就特别大  偏压大反射功率相对就很小  请问这是为什么
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1楼 2014-03-11 15:01:19
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匿名

用户注销 (职业作家)
本帖仅楼主可见
2楼2014-03-12 14:26:00
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yeminrunqi

新虫 (初入文坛)
★ ★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
mjx150: 金币+1, 欢迎到本版交流，新虫鼓励 2014-03-13 11:24:40
请问能详细介绍一下吗？比如，什么样的偏压电源，什么样的溅射电源？沉积什么涂层？  谢谢
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3楼2014-03-12 20:01:27
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sunweiqiang

新虫 (初入文坛)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
希望你说明一下反射功率和工作的电流乘以电压是一个概念吗？
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4楼2014-03-12 23:52:43
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lixiaolong8_

新虫 (初入文坛)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
你应该是说反了，偏压越大反射功率应该也越大
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随心随性随缘
5楼2014-03-13 00:16:24
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chicago113

新虫 (初入文坛)
不懂
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6楼2014-03-13 02:50:01
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zhaolianbo

木虫 (正式写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
楼主说的是射频电源吧？如果是的话反射功率要越小越好
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7楼2014-03-13 08:37:02
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郭立强

铁杆木虫 (正式写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
楼主先把术语搞明白吧
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8楼2014-03-13 08:54:05
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liguozun

银虫 (小有名气)
引用回帖:
3楼: Originally posted by yeminrunqi at 2014-03-12 20:01:27
请问能详细介绍一下吗？比如，什么样的偏压电源，什么样的溅射电源？沉积什么涂层？  谢谢

偏压(DC bias)  用硅靶溅射碳化硅基体
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9楼2014-03-13 14:25:45
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liguozun

银虫 (小有名气)
引用回帖:
4楼: Originally posted by sunweiqiang at 2014-03-12 23:52:43
希望你说明一下反射功率和工作的电流乘以电压是一个概念吗？

不一个概念
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10楼2014-03-13 14:27:09
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