5楼: Originally posted by lixiaolong8_ at 2014-03-13 00:16:24
你应该是说反了，偏压越大反射功率应该也越大

7楼: Originally posted by zhaolianbo at 2014-03-13 08:37:02
楼主说的是射频电源吧？如果是的话反射功率要越小越好

12楼: Originally posted by liguozun at 2014-03-13 14:29:09
嗯 就是射频电源  要使反射功率小 应该怎么设置 还有就是与偏压有关系吗 谢谢...

13楼: Originally posted by zhaolianbo at 2014-03-14 08:09:38
你的电源应该是手动调节匹配的吧，具体的原理我不清楚，反射功率小了，偏压就大，其实偏压这个参数并不蛮重要，影响因素很多，如共V了、气压，靶材等等。射频电源溅射需要的是让入射功率接近施加的功率，让反射功率 ...

15楼: Originally posted by zyjllyl at 2014-03-14 09:06:30
射频电源，不知道是哪家的呢？要匹配调节发射器的两个电容C1和C2（中科院微电子所射频电源好像就是这样的），这样偏压可以达到一个合适的值，另外偏压应该与你沉积的涂层有相关性，即不同的涂层或溅射模式（金属溅射 ...