24小时热门版块排行榜    

查看: 1041  |  回复: 15

liguozun

银虫 (小有名气)

引用回帖:
5楼: Originally posted by lixiaolong8_ at 2014-03-13 00:16:24
你应该是说反了,偏压越大反射功率应该也越大

可是我发现最近几次试验 偏压大了 反射功率特别小 有时候几乎为0 但是当偏压小了 反射功率就特别大接近输入功率了  很是不懂
11楼2014-03-13 14:28:23
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

liguozun

银虫 (小有名气)

引用回帖:
7楼: Originally posted by zhaolianbo at 2014-03-13 08:37:02
楼主说的是射频电源吧?如果是的话反射功率要越小越好

嗯 就是射频电源  要使反射功率小 应该怎么设置 还有就是与偏压有关系吗 谢谢
12楼2014-03-13 14:29:09
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

zhaolianbo

木虫 (正式写手)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
引用回帖:
12楼: Originally posted by liguozun at 2014-03-13 14:29:09
嗯 就是射频电源  要使反射功率小 应该怎么设置 还有就是与偏压有关系吗 谢谢...

你的电源应该是手动调节匹配的吧,具体的原理我不清楚,反射功率小了,偏压就大,其实偏压这个参数并不蛮重要,影响因素很多,如共V了、气压,靶材等等。射频电源溅射需要的是让入射功率接近施加的功率,让反射功率尽量小,到0最好,这个状态就是最好最稳定的射频溅射,你已经做到了,再去学习一下射频溅射的原理吧!
13楼2014-03-14 08:09:38
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

liguozun

银虫 (小有名气)

引用回帖:
13楼: Originally posted by zhaolianbo at 2014-03-14 08:09:38
你的电源应该是手动调节匹配的吧,具体的原理我不清楚,反射功率小了,偏压就大,其实偏压这个参数并不蛮重要,影响因素很多,如共V了、气压,靶材等等。射频电源溅射需要的是让入射功率接近施加的功率,让反射功率 ...

嗯  谢谢  不过我的电源不是手动的  我也不知道怎么设置 就手动设置了功率和压强
14楼2014-03-14 08:23:17
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

zyjllyl

新虫 (小有名气)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
射频电源,不知道是哪家的呢?要匹配调节发射器的两个电容C1和C2(中科院微电子所射频电源好像就是这样的),这样偏压可以达到一个合适的值,另外偏压应该与你沉积的涂层有相关性,即不同的涂层或溅射模式(金属溅射或反应溅射)有关。
15楼2014-03-14 09:06:30
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

liguozun

银虫 (小有名气)

引用回帖:
15楼: Originally posted by zyjllyl at 2014-03-14 09:06:30
射频电源,不知道是哪家的呢?要匹配调节发射器的两个电容C1和C2(中科院微电子所射频电源好像就是这样的),这样偏压可以达到一个合适的值,另外偏压应该与你沉积的涂层有相关性,即不同的涂层或溅射模式(金属溅射 ...

北京创始威纳科技的MSP-300B的,好像是自动匹配的这个我还真不清楚,望指点

[ 发自小木虫客户端 ]
16楼2014-03-15 16:50:27
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖
相关版块跳转 我要订阅楼主 liguozun 的主题更新
普通表情 高级回复 (可上传附件)
信息提示
请填处理意见