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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 功能薄膜 » 磁控溅射
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liguozun

银虫 (小有名气)

[交流] 磁控溅射 已有8人参与

磁控溅射设备的偏压和反射功率有什么关系吗  我做实验发现偏压小反射功率就特别大  偏压大反射功率相对就很小  请问这是为什么
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1楼 2014-03-11 15:01:19
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liguozun

银虫 (小有名气)
引用回帖:
13楼: Originally posted by zhaolianbo at 2014-03-14 08:09:38
你的电源应该是手动调节匹配的吧，具体的原理我不清楚，反射功率小了，偏压就大，其实偏压这个参数并不蛮重要，影响因素很多，如共V了、气压，靶材等等。射频电源溅射需要的是让入射功率接近施加的功率，让反射功率 ...

嗯  谢谢  不过我的电源不是手动的  我也不知道怎么设置 就手动设置了功率和压强
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14楼2014-03-14 08:23:17
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yeminrunqi

新虫 (初入文坛)
★ ★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
mjx150: 金币+1, 欢迎到本版交流，新虫鼓励 2014-03-13 11:24:40
请问能详细介绍一下吗？比如，什么样的偏压电源，什么样的溅射电源？沉积什么涂层？  谢谢
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3楼2014-03-12 20:01:27
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sunweiqiang

新虫 (初入文坛)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
希望你说明一下反射功率和工作的电流乘以电压是一个概念吗？
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4楼2014-03-12 23:52:43
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lixiaolong8_

新虫 (初入文坛)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
你应该是说反了，偏压越大反射功率应该也越大
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随心随性随缘
5楼2014-03-13 00:16:24
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