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liguozun

银虫 (小有名气)

[交流] 磁控溅射 已有8人参与

磁控溅射设备的偏压和反射功率有什么关系吗  我做实验发现偏压小反射功率就特别大  偏压大反射功率相对就很小  请问这是为什么
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zhaolianbo

木虫 (正式写手)


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引用回帖:
12楼: Originally posted by liguozun at 2014-03-13 14:29:09
嗯 就是射频电源  要使反射功率小 应该怎么设置 还有就是与偏压有关系吗 谢谢...

你的电源应该是手动调节匹配的吧,具体的原理我不清楚,反射功率小了,偏压就大,其实偏压这个参数并不蛮重要,影响因素很多,如共V了、气压,靶材等等。射频电源溅射需要的是让入射功率接近施加的功率,让反射功率尽量小,到0最好,这个状态就是最好最稳定的射频溅射,你已经做到了,再去学习一下射频溅射的原理吧!
13楼2014-03-14 08:09:38
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yeminrunqi

新虫 (初入文坛)

★ ★
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mjx150: 金币+1, 欢迎到本版交流,新虫鼓励 2014-03-13 11:24:40
请问能详细介绍一下吗?比如,什么样的偏压电源,什么样的溅射电源?沉积什么涂层?  谢谢
3楼2014-03-12 20:01:27
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sunweiqiang

新虫 (初入文坛)


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希望你说明一下反射功率和工作的电流乘以电压是一个概念吗?
4楼2014-03-12 23:52:43
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lixiaolong8_

新虫 (初入文坛)


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你应该是说反了,偏压越大反射功率应该也越大
随心随性随缘
5楼2014-03-13 00:16:24
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