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汕头大学海洋科学接受调剂
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liguozun

银虫 (小有名气)

[交流] 磁控溅射 已有8人参与

磁控溅射设备的偏压和反射功率有什么关系吗  我做实验发现偏压小反射功率就特别大  偏压大反射功率相对就很小  请问这是为什么
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liguozun

银虫 (小有名气)

引用回帖:
3楼: Originally posted by yeminrunqi at 2014-03-12 20:01:27
请问能详细介绍一下吗?比如,什么样的偏压电源,什么样的溅射电源?沉积什么涂层?  谢谢

偏压(DC bias)  用硅靶溅射碳化硅基体
9楼2014-03-13 14:25:45
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yeminrunqi

新虫 (初入文坛)

★ ★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
mjx150: 金币+1, 欢迎到本版交流,新虫鼓励 2014-03-13 11:24:40
请问能详细介绍一下吗?比如,什么样的偏压电源,什么样的溅射电源?沉积什么涂层?  谢谢
3楼2014-03-12 20:01:27
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sunweiqiang

新虫 (初入文坛)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
希望你说明一下反射功率和工作的电流乘以电压是一个概念吗?
4楼2014-03-12 23:52:43
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lixiaolong8_

新虫 (初入文坛)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
你应该是说反了,偏压越大反射功率应该也越大
随心随性随缘
5楼2014-03-13 00:16:24
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