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等离子体氧化要采用什么仪器
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zcyseyzju
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等离子体氧化要采用什么仪器
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想将Ni氧化,表面形成一层20nm以内的NiO,以前是在空气中热氧化,但是重复性稳定性不好,看文献里有提到plasma oxidation,但是细节方面不详细,网上一搜貌似都是等离子体电解氧化,和这种腔体里的不一样。想请教一下懂这方面的虫友,等离子体氧化有专门的仪器么,要采用什么仪器?
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1楼
2014-03-11 13:45:15
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zcyseyzju
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专业: 半导体材料
或者告诉我在哪可以做等离子体氧化也行啊,求大神指导。
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2楼
2014-03-13 18:24:22
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xcrbdhm
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【答案】应助回帖
还在学习,真想能帮到你。
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3楼
2014-03-16 08:57:05
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zcyseyzju
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专业: 半导体材料
引用回帖:
3楼
:
Originally posted by
xcrbdhm
at 2014-03-16 08:57:05
还在学习,真想能帮到你。
有这方面的教材或者资料推荐么?
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4楼
2014-03-16 14:42:23
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tongtong282
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东北大学 姚权桐博士专业做离子氧化的 相关问题你可以咨询他
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5楼
2015-07-12 20:16:29
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