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whitbear

新虫 (初入文坛)

[求助] 请问有做CD-SEM纳米线宽测量方面实验的吗?或者比较了解CD-SEM仪器的 已有1人参与

请问有做CD-SEM纳米线宽测量方面实验的吗?或者比较了解CD-SEM仪器的,或者纳米尺度测量方面的高手,有几个问题想要咨询
1、CD-SEM与SEM的主要区别
2、CD-SEM实验中线宽确定的算法是什么呢?
非常感谢
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yswyx

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引用回帖:
3楼: Originally posted by whitbear at 2014-02-20 17:03:44
非常感谢, 还有点疑问,“可根据已有算法自动计算线条宽度”,能说说具体是什么算法吗?是对线条二次电子强度分布图线进行怎样的处理,自动计算线条宽度的呢?再请问可有CD-SEM说明文件之类的,原理性或具体 ...

对二次电子的强度做处理是最基本的算法,比如直接求导算拐点,或者二次求导等等。算法方面你可以检索SPIE里面的论文,或者直接查KLA和Hitchi的论文。
说明书之类的,你要去专门的半导体网站上找,2ic上也许有。
4楼2014-02-25 16:16:22
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yswyx

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【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
whitbear: 金币+20, ★★★★★最佳答案, 非常感谢 2014-03-05 11:10:57
CD SEM和普通的SEM没有本质区别。
CD SEM是半导体工业中最常用的检测手段,主要用来检测光刻显影后光刻胶的线宽,由此带来了几个和普通SEM的区别。
1. 可以直接观测有机物的形貌尺寸。电子能量低,电荷累积效应小。不需要对样品进行喷金处理。
2. 真空腔室大。不同型号的设备,可以放置从4英寸到12英寸,甚至450mm直径的wafer。
3. 自动化程度高。可根据已有标记自动寻找测量位置,可根据已有算法自动计算线条宽度。可根据测量结果自动生成测量数据文件和图表。
2楼2014-02-20 13:59:54
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whitbear

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by yswyx at 2014-02-20 13:59:54
CD SEM和普通的SEM没有本质区别。
CD SEM是半导体工业中最常用的检测手段,主要用来检测光刻显影后光刻胶的线宽,由此带来了几个和普通SEM的区别。
1. 可以直接观测有机物的形貌尺寸。电子能量低,电荷累积效应小 ...

非常感谢, 还有点疑问,“可根据已有算法自动计算线条宽度”,能说说具体是什么算法吗?是对线条二次电子强度分布图线进行怎样的处理,自动计算线条宽度的呢?再请问可有CD-SEM说明文件之类的,原理性或具体操作性的均可,非常感谢
3楼2014-02-20 17:03:44
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