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不同光催化剂产生的空穴氧化能力是否一样?
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ZJHuang1
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不同光催化剂产生的空穴氧化能力是否一样?
已有2人参与
比如UV下TiO2产生的空穴和可见光下N-TiO2产生的空穴氧化能力是否一样?或者bandgap在2.8和3.2eV在相同条件下产生的空穴的氧化能力是否一样?Bandgap的大小是否与光催化氧化能力相关?同样,不同能带结构的光催化剂,产生的光生电子的还原能力是否也一样?
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精诚所至,金石为开
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2014-02-06 17:29:11
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yutian1224
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专业: 无机纳米化学
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gaofeng925: 金币+1, 积极
2014-02-07 14:35:40
引用回帖:
3楼
:
Originally posted by
ZJHuang1
at 2014-02-07 00:05:49
是价带位置越高氧化能力越强吗?
...
是的,越正越强,多看文献
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4楼
2014-02-07 08:30:43
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yutian1224
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感谢参与,应助指数 +1
vaughn: 金币+1, 积极应助,解释一下更好。
2014-02-07 10:00:46
考虑价带导带位置
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2楼
2014-02-06 23:32:00
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2楼
:
Originally posted by
yutian1224
at 2014-02-06 23:32:00
考虑价带导带位置
是价带位置越高氧化能力越强吗?
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精诚所至,金石为开
3楼
2014-02-07 00:05:49
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zhenwuhuang
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感谢参与,应助指数 +1
ZJHuang1(vaughn代发): 金币+1, 提供文献
2014-02-07 10:01:01
UV/TiO2/Fenton光催化氧化垃圾渗滤液的研究
http://www.docin.com/p-54861223.html
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5楼
2014-02-07 09:12:45
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