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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 专业学科区 » 物理 » 凝聚态物理 » 【求助】磁控溅射制备薄膜
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金虫 (正式写手)
★
lvzhu2007(金币+1,VIP+0):感谢交流,欢迎常来物理版~
O对薄膜的影响导致样品重复率差

唉，害死人

[ Last edited by lvzhu2007 on 2008-4-25 at 19:01 ]
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11楼2008-04-24 16:42:29
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zw1985915

铜虫 (小有名气)
★ ★
lvzhu2007(金币+2,VIP+0):感谢交流~
我曾帮老板做过一段时间的MS，主要是玻璃表面金属化，经过了大约two months的摸索，MS才渐渐稳定。我们也是国产的设备，自己设计，厂里加工，综合感觉挺好。
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12楼2008-04-24 23:37:16
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zhouliang768

★ ★ ★
zt970831(金币+3,VIP+0):感谢您的交流：）
我也做过几年薄膜制备实验，开始的时候总做不好重复试验，一度很坚决的认为是仪器的问题，正打算彻底放弃的时候，试验室的一位老师傅告诉我是因为我做的还是少，缺少实际控制的经验，听了觉得疑惑，于是继续练习，实验记录本记满几大本之后才发现仪器本来没有责任，之所以重复性不好，还是在于自己控制不当，制备条件不一致是最厚薄膜性能不一致的根本原因，希望对搂主有帮助。加油练习吧，没别的办法。
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13楼2008-04-28 10:42:47
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渔翁860

金虫 (正式写手)
看来做薄膜的兄弟不少啊，哈哈，谢谢大家的建议，真的写的很好，本人获益非浅！
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14楼2008-05-05 09:19:29
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nini_chen

银虫 (小有名气)

渔翁860 请问你是什么单位

渔翁860你好！首先想问一下你是什么单位？
相信你看了大家的一些评论，也应该有了一定了解。稳定性和重复性不只和设备有关，固然国产设备在整体质量上和国外有一定的差距，但是个人认为，重复性上还是和工艺的关系最大。除非设备出现了一些重大的问题，磁控溅射方面：比如设备有较大的漏气、靶出现消磁等主要问题。在工作气压、靶材功率、基片间距、基片温度等等方面都有很大的关系，如果你把你的问题说的详细一点，相信大家能够讨论的更加充分！
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15楼2008-06-02 15:10:32
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jamie82

木虫 (著名写手)

一三三
★
zt970831(金币+1,VIP+0):感谢您的交流
是不是靶中毒了？？要是靶没中毒，会不会本底真空不一样的？？或者镀膜时的基片温度不一样了？？本底真空和基片温度也会对薄膜产生不小的影响。
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心怀感恩，凡人与事都值得我感恩一番。
16楼2008-06-02 17:20:15
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cord

铁杆木虫 (著名写手)
溅射之前真空度多高啊？
用什么泵达到这个真空度？
你做的是那类薄膜？
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17楼2008-06-03 00:15:49
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