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金虫 (正式写手)


lvzhu2007(金币+1,VIP+0):感谢交流,欢迎常来物理版~
O对薄膜的影响导致样品重复率差

唉,害死人

[ Last edited by lvzhu2007 on 2008-4-25 at 19:01 ]
11楼2008-04-24 16:42:29
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zw1985915

铜虫 (小有名气)

★ ★
lvzhu2007(金币+2,VIP+0):感谢交流~
我曾帮老板做过一段时间的MS,主要是玻璃表面金属化,经过了大约two months的摸索,MS才渐渐稳定。我们也是国产的设备,自己设计,厂里加工,综合感觉挺好。
12楼2008-04-24 23:37:16
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zhouliang768

★ ★ ★
zt970831(金币+3,VIP+0):感谢您的交流:)
我也做过几年薄膜制备实验,开始的时候总做不好重复试验,一度很坚决的认为是仪器的问题,正打算彻底放弃的时候,试验室的一位老师傅告诉我是因为我做的还是少,缺少实际控制的经验,听了觉得疑惑,于是继续练习,实验记录本记满几大本之后才发现仪器本来没有责任,之所以重复性不好,还是在于自己控制不当,制备条件不一致是最厚薄膜性能不一致的根本原因,希望对搂主有帮助。加油练习吧,没别的办法。
13楼2008-04-28 10:42:47
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渔翁860

金虫 (正式写手)

看来做薄膜的兄弟不少啊,哈哈,谢谢大家的建议,真的写的很好,本人获益非浅!
14楼2008-05-05 09:19:29
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nini_chen

银虫 (小有名气)

渔翁860 请问你是什么单位

渔翁860你好!首先想问一下你是什么单位?
相信你看了大家的一些评论,也应该有了一定了解。稳定性和重复性不只和设备有关,固然国产设备在整体质量上和国外有一定的差距,但是个人认为,重复性上还是和工艺的关系最大。除非设备出现了一些重大的问题,磁控溅射方面:比如设备有较大的漏气、靶出现消磁等主要问题。在工作气压、靶材功率、基片间距、基片温度等等方面都有很大的关系,如果你把你的问题说的详细一点,相信大家能够讨论的更加充分!
15楼2008-06-02 15:10:32
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jamie82

木虫 (著名写手)

一三三


zt970831(金币+1,VIP+0):感谢您的交流
是不是靶中毒了??要是靶没中毒,会不会本底真空不一样的??或者镀膜时的基片温度不一样了??本底真空和基片温度也会对薄膜产生不小的影响。
心怀感恩,凡人与事都值得我感恩一番。
16楼2008-06-02 17:20:15
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cord

铁杆木虫 (著名写手)


溅射之前真空度多高啊?
用什么泵达到这个真空度?
你做的是那类薄膜?
17楼2008-06-03 00:15:49
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