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javase

至尊木虫 (著名写手)

[求助] 五道有关薄膜制备的问答题,一道40个金币,请大家帮帮我~~~ 已有1人参与

1.用热力学界面能理论,求真空蒸发沉积成膜时临界晶核的大小、临界晶核的数密度以及成核速率。分析影响临界晶核尺寸大小的热力学因素。
2.试根据宏观的成核理论,从键能的角度分析A原子沉积在B衬底上的薄膜生长模式。
3.试分析直流溅射沉积中,放电气体对溅射成膜速率、薄膜纯度的影响; 探讨影响膜中放电气体含量的因素及减少含量的途径。
4. 为什么合金和化合物沉积时,不易得到原成分比? 为得到原成分比可采用哪些方法。
5.根据射频放电离子镀的工作原理,阐述其优缺点,分析其绕射性和膜层的附着性。如果用其有意识的沉积含氦的钛膜,如何设计镀膜工艺来控制其含氦量?

都是问答题,越详细越好,截止日期为1月6日晚,周末两天时间足够了吧……每道题最佳答案给予40个金币的奖励,总共200个金币噢,谢谢大家!

[ Last edited by javase on 2014-1-3 at 18:30 ]
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zhangrenfa

银虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

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感谢参与,应助指数 +1
javase: 金币+40, ★★★很有帮助, 谢谢! 2014-01-05 17:05:30
第四题:原因:由于各成分的饱和蒸气压不同,使得蒸发速率也不同,会发生分解和分离从而引起薄膜成分的偏离
合金:可采用瞬间蒸发法和双源或者多源蒸发法
化合物:可采用反应蒸发法,电阻加热法,双源或者多源蒸发法
生命就是用来奋斗的
2楼2014-01-04 16:34:33
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