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[求助]
硅基电化学腐蚀，求助！！
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单晶硅电化学腐蚀 腐蚀液是HF+DMF 前段时间做的时候电流较小，能够正常腐蚀出需要的图形 后来改变电流大小，增大了腐蚀电流，就出现腐蚀不下去的现象，只能腐蚀下去一点点的深度，而且在光学显微镜下观察能够观察到明显粗糙有小孔的表面 这是怎么回事？？有高人懂的没有，或者有相关文献提供，万分感谢 正常的情况下，电流大了应该会出现电抛光现象，怎么还会出现粗糙的表面？？ 会不会是表面有氧化物形成阻止了腐蚀的进行？？ 望高人解答！！ |
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CHNxmc
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