| 查看: 1195 | 回复: 0 | ||
09chenyun木虫 (小有名气)
中科院博士，清华大学博士后
|
[求助]
γ-MPS修饰二氧化硅颗粒（含两问题）
|
|
1.我想用大概10微升的γ-MPS修饰200nm二氧化硅，请问是在碱性条件下进行修饰么？如果是，碱性条件下的修饰机理是什么？新手求指教。 2.The concentration of silica particles was adjusted in order to keep the number of silica seeds much lower than the number of polystyrene particles, which meant that free latex particles were also produced in the reactor。 这段话中的free latex particles 是啥意思啊？怎么也理解不了，求助哈。。  |
回复此楼» 猜你喜欢
265求调剂
已经有8人回复
-
311求调剂
已经有4人回复
-
一志愿厦门大学化学学硕307求调剂
已经有13人回复
-
一志愿211，335分，0856，求调剂院校和导师
已经有15人回复
-
275学硕081000服从调剂到其他专业，保不住本专业了
已经有4人回复
-
274求调剂
已经有8人回复
-
367求调剂
已经有8人回复
-
一志愿9初试366 本双非求调剂
已经有3人回复
-
314求调剂
已经有9人回复
-
298求调剂
已经有3人回复
找到一些相关的精华帖子，希望有用哦~
关于KH560修饰介孔二氧化硅的问题
已经有10人回复
- 纳米二氧化硅表面偶联剂预处理怎么做
已经有9人回复
- SiO2与硅烷偶联剂的反应
已经有3人回复
- 【请教】超细二氧化硅表面改性问题
已经有5人回复
- 【交流】讨论二氧化硅表面修饰的问题
已经有17人回复
点击这里搜索更多相关资源科研从小木虫开始，人人为我，我为人人
