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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 学术讨论 » 对硅基片进行亲水处理，采用NH4OH/H2O2溶液的话配比一般是多少？
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楼1970-01-01 08:00:00
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lucasone

木虫 (小有名气)
引用回帖:
6楼: Originally posted by 小矮晶晶 at 2014-06-08 18:48:40
你好，氨水和双氧水的浓度有要求吗？需要浓氨水吗？直接加热之类可以吗？有什么潜在危害吗？...

就是正常买的就行，我们用的水浴，直接加热应该也行，但是控温没那么容易，危害就是味道比较大，最好在通风橱里面做
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7楼2014-06-09 08:29:00
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lucasone

木虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
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流水如风: 金币+5, ★★★★★最佳答案 2013-12-16 19:39:36
氨水，双氧水，去离子水体积比为1:1:5,90度水浴加热一个小时。
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2楼2013-12-11 13:18:12
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流水如风

银虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by lucasone at 2013-12-11 13:18:12
氨水，双氧水，去离子水体积比为1:1:5,90度水浴加热一个小时。

处理过程是将硅基片放在NH4OH/H2O2溶液中，然后90度水浴加热一个小时吗？
刚接触这方面还请多多指教
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3楼2013-12-12 21:23:53
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lucasone

木虫 (小有名气)
引用回帖:
3楼: Originally posted by 流水如风 at 2013-12-12 21:23:53
处理过程是将硅基片放在NH4OH/H2O2溶液中，然后90度水浴加热一个小时吗？
刚接触这方面还请多多指教...

对，硅片之间要用异丙醇，丙酮和去离子水分别超声清洗，然后用氨水双氧水处理。
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4楼2013-12-13 09:18:42
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