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关于宽带隙半导体的光催化反应
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合成过几种光催化剂，从吸收光谱上看，这些材料可以认为无法吸收可见光，如图所示，吸收带边也就到350nm。 但是这些材料在可见光下都表现出了光催化活性，在Pt的负载下，可以光解纯水制氢，产氢速率可以达到10 umol/h/g(20mg光催化剂)。加入牺牲试剂(甲醇或硫化物等)后，产氢速率等进一步提高。 从能带理论出发，这些材料因为无法吸收可见光，不可能实现在可见光下光解纯水。但事实上它们却表现出了可见光活性，原因何在？有没有相关的文献讨论过这种现象？是否可以归结为Pt的表面等离共振？  Graph2.jpg |
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 材料合成与表征 |
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6楼2013-12-06 16:27:42
2楼2013-12-05 16:51:02
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小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
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这个有过很多解释，你可以参考下日本的NOSAKA教授的论文。 1. 可能是由TiO2表面氧缺陷造成的。 2. 负载Pt时，含有的Cl负载在TiO2上造成的。 |
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tyronezhang3楼2013-12-05 19:19:08
4楼2013-12-06 08:23:05
